央美学生回应毕业作品被指撞款 持全部原始创作资料

一名博主发现中央美术学院今年毕业展中的一幅佛像修复壁画与他两年前的作品相似。该博主曾在申请央美博士时将自己作品的研究方法提交给同一导师，他认为这种巧合很不寻常。

对此，展出该作品的央美毕业生回应称，他的作品是校内自主科研项目的一部分，从选题论证到最终呈现都有完整的原始创作资料。他对博主的质疑表示不满，认为这是恶意造谣，并展示了团队的部分工作成果和创作过程。

该博主提到，2024年他在杭州国美展中展出了一件名为“河北四五流画工”的修复作品。他指出，两幅作品取材均来自山西高平开化寺的一幅壁画。虽然他无法界定是否涉及抄袭，但他认为两幅作品在研究选题、思路、呈现方式等方面非常相似。

这一事件在网上引发了大量讨论。有人认为古壁画修复属于临摹范畴，难以判定抄袭；也有人质疑该博主此前曾以此课题申请央美博士，两年后该课题再现，是否存在选题或创意剽窃。

涉事学生强调，他的毕业作品源于学校与相关单位合作的壁画保护复原专项成果，团队历时三年完成了高平开化寺壁画80%的1:1复原重绘。他持有所有创作资料，并表示欢迎博主来美院当面交流。他还保留了所有证据，准备依法维权。

律师郑学知指出，如果临摹者在修复过程中融入了个人独特的创意，使作品具备独创性，那么该作品就受著作权法保护。本次事件中，需要专业人士鉴定两幅作品是否构成实质性相似。此外，研究思路属于抽象想法，著作权法只保护表达而不保护思想，因此仅凭研究思路被使用很难认定侵权。