我国集成电路布图设计保护制度的最新发展

　　我国集成电路布图设计保护制度的最新发展

　　崔国斌清华大学法学院

　　我国于2001年出台的《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》)，是加强集成电路知识产权保护的专门法规，通过赋予布图设计创作者专有权，禁止竞争对手未经许可复制和商业利用他人已登记的布图设计，从而保护创作者付出的智力劳动和资金投入。当前，集成电路知识产权保护的需求显著增加，我国及时修订《条例》，系统完善集成电路布图设计保护制度，具有重要的现实意义。

　　一、引入依请求撤销登记程序

　　布图设计专有权经国家知识产权局登记产生，未经登记不受《条例》保护。修订前的《条例》对布图设计获准登记后发现不符合规定的撤销登记程序作出了规定，但该程序限于由国家知识产权局依职权启动，实践中第三方仅可提出撤销建议。修订后的《条例》引入了依第三方请求启动撤销登记的程序，即“任何人发现该登记不符合本条例规定的，可以请求国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记。国务院知识产权行政部门对撤销布图设计登记的请求应当及时审查和作出决定，并通知请求人和布图设计权利人。”

　　修订后的《条例》规定的撤销程序与专利权无效宣告程序十分相似。在专利侵权诉讼中，被告不能直接主张专利权无效抗辩，而是需要通过独立的程序宣告专利权无效。在布图设计侵权诉讼中，被告也不应直接提出布图设计登记应被撤销的抗辩，即法院应该推定布图设计登记有效，然后作出是否侵权的决定。如果被告主张登记应被撤销，则应通过单独的行政程序撤销布图设计登记。

　　二、增加创作布图设计的奖酬措施

　　修订前的《条例》未规定法人或非法人组织在布图设计商业化成功后，是否或如何给予相关人员奖励和报酬。为激励布图设计创作和应用，本次《条例》修订新增规定法人或者非法人组织应当依照《促进科技成果转化法》和国家有关规定，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬。

　　修订后的《条例》直接适用《促进科技成果转化法》和国家有关规定，采用约定优先原则，允许单位与设计人员约定奖励和报酬的方式、数额和时限。未约定，则按照《促进科技成果转化法》规定，提取不低于科技成果转让净收入或许可净收入的50%、或者科技成果作价投资形成的股份或出资比例的50%，给予奖励和报酬；如果是自行实施或者与他人合作实施，成功投产后连续3-5年，每年提取不低于营业利润的5%，给予奖励和报酬。

　　三、完善侵权损害赔偿规则

　　修订后的《条例》完善了侵权损害赔偿规则，引入了惩罚性赔偿制度。在侵权损害计算方法方面，修订后的《条例》参考《专利法》，明确按照权利人的实际损失、侵权人的侵权所得或者许可使用费的倍数来确定赔偿数额。值得一提的是，参照“许可使用费的倍数合理确定”的表述与《专利法》一致，在侵权人并不存在故意的情况下，这一赔偿数额计算方法依然是补偿性的，并不存在惩罚之目的。

　　修订后的《条例》引入惩罚性赔偿制度，即“对故意侵犯布图设计专有权，情节严重的，可以在按照上述方法确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额”，体现了提高布图设计保护水平的目的。登记的布图设计通常包含较多独创性细节，修订后的《条例》在强化登记申请文件要求和确定专有权保护范围方面作出系列修改，使得布图设计的独创性部分与修订前的《条例》相比更加容易查证。权利人在证明侵权人存在主观故意且情节严重的情况下，修订后《条例》规定的惩罚性赔偿可对侵权人构成现实威慑。就此而言，惩罚性赔偿制度的引入对权利人无疑是利好消息。

　　四、完善保密要求

　　实践中，申请人多选择以电子申请的方式提交电子版本的复制件或者图样。在修订后的《条例》要求复制件或者图样能够清楚显示布图设计的独创性部分的情况下，申请人或者权利人难免存在泄露布图设计相关信息的担忧。

　　修订后的《条例》配套完善了保密要求及法律责任，明确除国家机关依法履职需要外，任何人不得查阅或者复制布图设计的复制件或者图样的电子版本；同时对国务院知识产权行政部门工作人员及有关人员、代理机构泄露布图设计未公开内容应当承担相应的法律责任作出规定。

　　综上，集成电路创新模式的深刻变化，使得集成电路布图设计保护制度的修改和完善具有重要的现实意义和紧迫性。本次《条例》修改回应了实践需求，系统完善了我国集成电路布图设计保护规则，为设计企业应对新技术挑战提供了更为清晰的行动指引，有理由相信，修订后的《条例》将会产生更好的创新激励效果。