《集成电路布图设计保护条例》专家解读

　　专家解读文章

　　1、集成电路布图设计独创性声明制度（李顺德）

　　2、 适应高质量发展需求 完善集成电路知识产权保护制度（郭禾）

　　3、我国集成电路布图设计保护制度的最新发展（崔国斌）

　　4、我国集成电路布图设计保护制度的重大修改（黄蕴华）

　　专家解读一

　　李顺德

　　中国社会科学院法学研究所

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　　近日，国务院公布了修订后的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》），自2026年10月15日起施行。这是《条例》施行25年来的第一次全面修订。此次修订的亮点之一在于增加了“独创性声明”要求。

　　集成电路布图设计的“独创性”是获准登记、取得法律保护的实体要件。“独创性声明”是本次《条例》修订增设的法定登记文件，是布图设计申请登记必须提交的申请文件之一，作为申请人向国家知识产权局提交、用于书面说明布图设计独创性边界、论证其符合独创性法定标准的正式书面材料。简而言之，布图设计的“独创性声明”把抽象的“独创性”判断要件（标准）转化为可审查、可举证的书面文件，申请登记后存入官方档案，是判断布图设计是否具备独创性的法定关键书证。

　　修订前的《条例》虽然明确规定了“独创性”是集成电路布图设计登记、保护的实体性要件，但实践中很难通过申请登记程序具体指明、限定布图设计“独创性”的全部必要信息，导致布图设计“独创性”的内涵及外延模糊不清，从而导致进行“独创性”判定相当困难，判定成本也相当高昂，甚至无法判定。修订后的《条例》，增加了独创性声明要求，用于界定、解释复制件或者图样中的独创性部分，可以有效解决上述保护范围难以确定的现实难题。

　　二、独创性声明的制度价值

　　集成电路布图设计增加“独创性声明”要求，是我国针对该领域保护制度的一次重要完善，其重要意义体现在以下方面。

　　一是提升了布图设计登记制度的确定性。独创性声明制度通过要求权利人在申请登记阶段就明确指明布图设计的独创性部分，从而显著提升布图设计“保护范围”的确定性，将权利人的主张在登记阶段即予以明确，专有权人在后续程序中不能再随意扩大保护范围，可以使独创性审理范围清晰明确。此外，独创性声明作为必须提交的申请文件，有助于引导申请人合法行使权利，提升登记制度的确定性。综上，独创性声明制度使权利边界更加清晰，有效解决了保护范围难以确定的问题，在保护权利人合法权益的同时，更好地平衡了布图设计权利人与社会公众之间的利益。

　　二是强化了布图设计源头保护，有利于降低确权、维权、运用等环节成本，提升整体效能。在确权环节，因申请人需要投入精力撰写独创性声明，可能会增加前期代理或内部法务成本，但独创性部分在登记时通常即被固定，权利基础更加扎实，可有效降低被撤销登记的风险成本。在维权环节，可有效降低与权利保护范围确定相关的举证与鉴定成本，显著提高侵权纠纷处理效率。同时配合诚实信用原则和惩罚性赔偿制度，既可防止权利人利用模糊的权利边界进行“钓鱼维权”或滥诉，也可提高侵权违法成本，从源头上减少侵权行为的发生。在运用环节，一方面可以在布图设计的转让、许可或质押等商业运用中，使受让人或者被许可人清晰地评估布图设计的实际技术价值和权利边界，降低尽职调查成本，另一方面也可以减少权属纠纷与谈判摩擦，降低商业合作中的沟通与谈判成本。综上，独创性声明制度虽然在申请前端增加了少量的撰写成本，但可在确权、维权、运用等后端环节大幅降本增效，最终实现社会总体成本的显著下降，为集成电路技术创新发展提供更加稳定、可预期的法治环境。

　　专家解读二

　　适应高质量发展需求 完善集成电路知识产权保护制度

　　郭禾

　　中国人民大学知识产权学院

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　　我国《集成电路布图设计保护条例》颁布已经25年。在过去的四分之一世纪里，集成电路技术突飞猛进，集成度与基础密度均迅速提高，尤其是EDA工具的普及，致使原来的保护规则在事实上已经不能很好地满足集成电路技术发展的需求。而且，《条例》实施过程中也出现了权利保护范围不易界定、侵权行为规制不够有力等问题。因此，在总结实践经验的基础上结合技术进步等情况，对《条例》加以修订是必要的。

　　客观地讲，世界各国关于集成电路布图设计保护的制度都是在半导体集成电路技术的基础上发展起来的。如今，光子集成器件、量子芯片技术发展迅猛，在一些领域光电结合的芯片已经得到广泛应用。因此，此次《条例》修订在与“集成电路”定义有关的条文表述上删除了“半导体集成电路”的字样，明确将集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计纳入《条例》保护范围。修订前的《条例》将保护范围明确限定于半导体集成电路，直接反映出三十多年前立法者面对当时集成电路这样一个发展中的新事物抱有相对保守的态度。这一方面是受当时全球集成电路技术整体发展路线的局限，另一方面也是为了适应当时我国集成电路产业的发展水平。此次《条例》修订在与“集成电路”定义有关的条文表述上删除了“半导体集成电路”的字样，表面上看无关大局，因为目前世界上各类单片集成电路仍然需要以半导体材料作为基片，但在修法程序专门删除“半导体集成电路”字样的意义，绝不仅仅是立法技术层面上的冗余割舍，更为重要的是彰显了今日中国在知识产权立法上的态度，即我们已经不再是知识产权制度上的保守主义者，激励创新、着眼未来、以开放的态度拥抱技术创新，已经成为中国在知识产权保护上的底色。

　　二十多年来，在《条例》实施过程中，我国行政、司法等部门在集成电路布图设计保护方面都已积累了大量的经验。此次修订中，专门针对登记行为及登记程序中的相关问题进行了较大幅度的调整。修订后的《条例》在第23条和第24条中分别专门增加了：“申请人提交的复制件或者图样应当包含布图设计的必要信息，能够清楚地显示该布图设计具有独创性的部分”，以及“独创性声明应当指明布图设计具有独创性的设计区域、设计要点以及相应功能”的规定。这些修改不仅仅弥补了修订前的《条例》只要求提交布图设计复制件或图样，而未对提交复制件或图样的法律意义以及为实现该意义应当具备的具体要求作出明确规定的不足；更为重要的是有助于明确权利人所要求保护的具体范围，即申请人应当直接指出布图设计中最具商业价值的独创性部分。这些修改使布图设计登记行为在法律上能够真正起到存证的作用。换言之，在发生侵权纠纷时能够较为便捷地进行侵权判断。这无论对于裁判者，还是诉讼当事人双方都是有益的。因为这不仅有利于把握争议焦点，同时可以大幅度降低纠纷解决成本。否则，即使在现有的集成度条件下，比较两个芯片中是否存在复制布图设计，尤其是复制部分布图设计的情形也已经非常困难。当然，修订后的《条例》第34条还规定：“受保护的布图设计以登记的布图设计的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性”。该条款虽然在形式上类似我国《专利法》第64条“发明或者实用新型专利权的保护范围以其权利要求的内容为准，说明书及附图可以用于解释权利要求的内容。外观设计专利权的保护范围以表示在图片或者照片中的该产品的外观设计为准，简要说明可以用于解释图片或者照片所表示的该产品的外观设计”。但如果仔细分析会发现在侵权判定上由于布图设计与专利法保护对象的差异，在布图设计侵权判断时既不能完全按照专利法中由技术特征组合而成的完整技术方案间的比较来进行，也不能彻底抛开技术只看图样。

　　此外，《条例》的此次修订还借鉴、吸收了二十多年来我国知识产权制度建设中各类可行的经验和有价值的做法。比如，引入诚实信用原则，使其贯穿布图设计的申请、权利行使全过程。又如，借鉴其他知识产权单行法，并落实《民法典》中关于惩罚性赔偿制度的规定，强化了对布图设计的保护力度。应当指出的是，此次修订优化了申请、审查程序，以及撤销登记、权利恢复、公众查阅等内容，都在立法技术层面上对布图设计的保护提供了更加完备的保障。

　　总体上讲，此次修订无疑在很大程度上提高了我国集成电路布图设计的保护水准，对加快知识产权强国建设和满足高质量发展需求具有重要的现实意义。

　　专家解读三

　　我国集成电路布图设计保护制度的最新发展

　　崔国斌

　　清华大学法学院

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　　我国于2001年出台的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》），是加强集成电路知识产权保护的专门法规，通过赋予布图设计创作者专有权，禁止竞争对手未经许可复制和商业利用他人已登记的布图设计，从而保护创作者付出的智力劳动和资金投入。当前，集成电路知识产权保护的需求显著增加，我国及时修订《条例》，系统完善集成电路布图设计保护制度，具有重要的现实意义。

　　一、引入依请求撤销登记程序

　　布图设计专有权经国家知识产权局登记产生，未经登记不受《条例》保护。修订前的《条例》对布图设计获准登记后发现不符合规定的撤销登记程序作出了规定，但该程序限于由国家知识产权局依职权启动，实践中第三方仅可提出撤销建议。修订后的《条例》引入了依第三方请求启动撤销登记的程序，即“任何人发现该登记不符合本条例规定的，可以请求国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记。国务院知识产权行政部门对撤销布图设计登记的请求应当及时审查和作出决定，并通知请求人和布图设计权利人。”

　　修订后的《条例》规定的撤销程序与专利权无效宣告程序十分相似。在专利侵权诉讼中，被告不能直接主张专利权无效抗辩，而是需要通过独立的程序宣告专利权无效。在布图设计侵权诉讼中，被告也不应直接提出布图设计登记应被撤销的抗辩，即法院应该推定布图设计登记有效，然后作出是否侵权的决定。如果被告主张登记应被撤销，则应通过单独的行政程序撤销布图设计登记。

　　二、增加创作布图设计的奖酬措施

　　修订前的《条例》未规定法人或非法人组织在布图设计商业化成功后，是否或如何给予相关人员奖励和报酬。为激励布图设计创作和应用，本次《条例》修订新增规定法人或者非法人组织应当依照《促进科技成果转化法》和国家有关规定，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬。

　　修订后的《条例》直接适用《促进科技成果转化法》和国家有关规定，采用约定优先原则，允许单位与设计人员约定奖励和报酬的方式、数额和时限。未约定，则按照《促进科技成果转化法》规定，提取不低于科技成果转让净收入或许可净收入的50%、或者科技成果作价投资形成的股份或出资比例的50%，给予奖励和报酬；如果是自行实施或者与他人合作实施，成功投产后连续3-5年，每年提取不低于营业利润的5%，给予奖励和报酬。

　　三、完善侵权损害赔偿规则

　　修订后的《条例》完善了侵权损害赔偿规则，引入了惩罚性赔偿制度。在侵权损害计算方法方面，修订后的《条例》参考《专利法》，明确按照权利人的实际损失、侵权人的侵权所得或者许可使用费的倍数来确定赔偿数额。值得一提的是，参照“许可使用费的倍数合理确定”的表述与《专利法》一致，在侵权人并不存在故意的情况下，这一赔偿数额计算方法依然是补偿性的，并不存在惩罚之目的。

　　修订后的《条例》引入惩罚性赔偿制度，即“对故意侵犯布图设计专有权，情节严重的，可以在按照上述方法确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额”，体现了提高布图设计保护水平的目的。登记的布图设计通常包含较多独创性细节，修订后的《条例》在强化登记申请文件要求和确定专有权保护范围方面作出系列修改，使得布图设计的独创性部分与修订前的《条例》相比更加容易查证。权利人在证明侵权人存在主观故意且情节严重的情况下，修订后《条例》规定的惩罚性赔偿可对侵权人构成现实威慑。就此而言，惩罚性赔偿制度的引入对权利人无疑是利好消息。

　　四、完善保密要求

　　实践中，申请人多选择以电子申请的方式提交电子版本的复制件或者图样。在修订后的《条例》要求复制件或者图样能够清楚显示布图设计的独创性部分的情况下，申请人或者权利人难免存在泄露布图设计相关信息的担忧。

　　修订后的《条例》配套完善了保密要求及法律责任，明确除国家机关依法履职需要外，任何人不得查阅或者复制布图设计的复制件或者图样的电子版本；同时对国务院知识产权行政部门工作人员及有关人员、代理机构泄露布图设计未公开内容应当承担相应的法律责任作出规定。

　　综上，集成电路创新模式的深刻变化，使得集成电路布图设计保护制度的修改和完善具有重要的现实意义和紧迫性。本次《条例》修改回应了实践需求，系统完善了我国集成电路布图设计保护规则，为设计企业应对新技术挑战提供了更为清晰的行动指引，有理由相信，修订后的《条例》将会产生更好的创新激励效果。

　　专家解读四

　　我国集成电路布图设计保护制度的重大修改

　　黄蕴华

　　国家工业信息安全发展研究中心知识产权所

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　　近日，国务院公布了新修订的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》），这是《条例》20多年来的首次系统性修订。修订内容主要涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等多方面。其中，最为重要的修改内容便是扩展保护范围，将“集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计”纳入《条例》法定保护范围，破解新型集成电路知识产权保护难题。

　　一、集成电路技术发展进入革新时代

　　为保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，我国《集成电路布图设计保护条例》于2001年颁布，彼时立足产业发展实际，借鉴国际立法经验，将保护对象聚焦于电子传输、电子运算的传统集成电路布图设计。当前，传统集成电路晶体管制程已趋近工艺与物理边界，光子、量子等颠覆性技术不断涌现，推动集成电路迈入以新架构、新机理、新材料、新器件为竞争主线的后摩尔时代。各国在不断探索突破传统集成电路特征尺寸物理极限的同时，正在开辟新型集成电路技术路径。我国“十五五”规划明确提出，要“提升高端芯片、光电子器件、基础软件和工业软件等产业水平”，“实施人工智能、量子科技、生物科技、新能源等科技战略部署”，在集成电路领域要“推进存算一体、三维集成、光电融合等技术突破应用”。新修订的《条例》及时回应技术发展前沿，将“集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计”纳入保护范围，正是对集成电路技术发展的准确把脉与积极回应。

　　二、实现新型集成电路布图设计全方位保护

　　《条例》是知识产权法律体系中技术性、专业性较强的法规之一，集成电路与集成电路布图设计的概念便是这一特征的集中体现。《条例》对“集成电路”和“集成电路布图设计”分别进行了明确界定，兼顾了集成电路技术特点与知识产权法律保护要件，确立了“三维配置”的布图设计认定标准，并规定含有布图设计的产品应执行某种电子功能等要件，准确界定了传统微电子集成电路及布图设计的法律概念。但随着光子、量子信息与微电子技术的深度融合，光电融合集成、硅光光子集成、量子芯片等前沿技术迭代提速，相关产品功能维度已突破传统单一电子信号处理范畴，若严格沿用传统集成电路定义，难以有效保护创新。

　　虽然实践中已通过个案审查的方式实现对新型集成电路布图设计的保护，但随着技术快速演进，集成电路愈发呈现出器件定性模糊、功能载体分化等特点，技术层面的广义范畴与法律层面的狭义认定之间的矛盾会逐渐增大，实践中难免出现确权依据不足、行政司法裁判标准不一等问题，有待立法从根本上予以解决。新修订的《条例》在沿用传统集成电路概念的基础上，明确规定“对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护”，有效解决了未来集成电路器件、载体等定性问题，对集成电路布图设计知识产权法律保护问题进行了前瞻性、专业性回应。

　　三、护航我国集成电路技术创新发展

　　《条例》此次修订提升了集成电路布图设计知识产权保护水平，是护航我国集成电路技术创新发展的重要举措。集成电路设计环节处于产业链上游，决定着芯片的性能、功耗与竞争力。随着技术发展，光子芯片、量子芯片产品迭代周期进一步缩短，波导排布、量子比特布局、三维异构互连、版图拓扑优化等版图架构设计更加成为技术竞争的关切点。修订后的《条例》，将进一步筑牢前沿集成电路知识产权保护屏障，构建起适配我国集成电路技术创新节奏的制度体系。自2022年起，我国含有光子、量子器件的集成电路布图设计登记申请数量开始增多，2024年后呈现出规模申报的趋势。可以预见，修订后的《条例》将与时代同频共振，进一步发挥集成电路布图设计专有权的保护优势，激励创新主体设计热情，促进我国集成电路技术创新发展。